European Commission logo
español español
CORDIS - Resultados de investigaciones de la UE
CORDIS
Contenido archivado el 2024-05-29

Plasma Etching for desired nano-Feature shape and nano-texture: An Advanced Reactor and Simulation Software for Feedback-Loop Plasma Control

Article Category

Article available in the following languages:

El grabado con plasma ya es mayor de edad

El grabado de precisión de circuitos mediante flujos de plasma ha planteado la perspectiva de obtener tecnologías de vanguardia. Esto permitirá a las PYME producir dispositivos electrónicos con mucha más rapidez y eficiencia.

Economía digital icon Economía digital

El grabado con plasma es un proceso de fabricación en el que se emplean flujos rápidos de descargas de plasma para crear circuitos integrados. El proyecto europeo Nanoplasma («Grabado con plasma para obtener formas de nanoelementos y nanotexturas: reactor avanzado y software de simulación para el control del plasma mediante bucle de realimentación») investigó un nuevo método de grabado con plasma. Este nuevo método multinivel exigió realizar experimentos de medición y control para conseguir una grabación con plasma a escala nanométrica, incluyendo la inducción de rugosidad o textura de forma controlada. Centrándose en el diagnóstico del plasma, la simulación del plasma y el software de modelización de superficies, el proyecto desarrolló un diseño de herramienta de grabado con plasma que mejora la producción y el control de procesos difíciles de grabado a nanoescala. Nanoplasma validó los modelos de grabado por plasma mediante el control de los flujos de gases y la potencia del plasma con el fin de controlar de cerca la velocidad de grabado y el perfil obtenido. En el proyecto se desarrolló una instalación de grabado con plasma con una nueva fuente de plasma, ajuste automático de la radiofrecuencia, espectroscopia integrada y control de bucle cerrado, lo cual da como resultado una precisión excepcional. Se han conseguido avances en la reducción de la rugosidad y en la creación de pilares texturados con 50 nm de grosor. En suma, el proyecto ha generado prototipos viables de una herramienta nueva de grabado con plasma y un simulador de grabado. También ha generado 15 artículos publicados en revistas académicas y 50 publicaciones académicas durante varios congresos. Se han registrado cuatro solicitudes de patente con el objetivo de proteger la nueva tecnología, lo cual demuestra una vez más la supremacía de Europa en este tipo de tecnología. El proyecto ha proporcionado una tecnología puntera y un método rentable con los que PYME podrán fabricar nanodispositivos en pequeños lotes y, en un futuro, en cantidades mayores.

Descubra otros artículos del mismo campo de aplicación