Objectif This project continues the theme of Project 193 by determining the reproducibility of the determination of thin oxide film thickness using AES and XPS whilst at the same time improving quantification procedures and determining important reference data for the oxide system studied. Results Samples of 230 nm thick Al203 on Al were produced and characterized using nuclear reaction analysis. XPS was then used to determine Al and O peak positions, intensities, chemical shifts and the oxide thickness using the spectrometer energy calibration determined in project 193. In addition the layer was sputter depth profiled using AES and the BCR 260 Ta205 oxide thickness reference material. The very consistent results gave the following - the binding energies of the metallic states Al 2p and Al 4f7/2 are 73.0 +/- 0.1 eV and 118.0 +/- 0.2 eV; - the chemical shifts of Al(3+) in the oxide layer are 2.8 +/- 0.1 eV and 2.5 +/- 0.1 eV; - using the oxide thickness obtained with nuclear reaction analysis and the ratios of the oxide thickness to electronattenuation length from XPS, the attenuation lengths forAl203 are (Al2p)MgKa = 17.7 degrees A and (Al2p)AlKa = 20.5 degrees A; - the ratios of the photoelectron yields of oxygen toaluminium are Y(01s)/Y(Al2p) = 6.1 +/- 0.7 and Y(01s)/Y(Al2s)= 5.0 +/- O.7; - the LMM and KLL A AES energies of Al in Al203 53.5 +/- 2.8 eVand 1389.5 +/- 3.5 eV, the corresponding values for Al metal being 66.4 +/- 2.8 eV and 1394.4 +/- 4.0 eV; - the relative etching rate between Al203 and Ta205 is 0.69 +/- 0.17 Champ scientifique natural scienceschemical sciencesinorganic chemistrypost-transition metals Programme(s) FP2-BCR 4 - Research and development programme (EEC) in the field of applied metrology and chemical analysis (Community Bureau of Reference - BCR), 1988-1992 Thème(s) Data not available Appel à propositions Data not available Régime de financement CSC - Cost-sharing contracts Coordinateur Université de Paris VI (Université Pierre et Marie Curie) Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Paris France Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Participants (9) Trier par ordre alphabétique Trier par contribution de l’UE Tout développer Tout réduire Alcan International Ltd Royaume-Uni Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Central Electricity Generating Board (CEGB) Royaume-Uni Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Chalmers Univ Suède Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Ecole Polytechnique Federale Suisse Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Voir sur la carte Coût total Aucune donnée IRSID France Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Max Planck Institut Stuttgart Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Stuttgart Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften eV Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse 40237 Düsseldorf Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Univ. Delft Pays-Bas Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Voir sur la carte Coût total Aucune donnée Vereinigte Aluminiumwerke AG Allemagne Contribution de l’UE Aucune donnée Adresse Georg-von-Boeselager-Straße 53117 Bonn Voir sur la carte Coût total Aucune donnée