Objectif
Atomically thin layers of transition metal dichalcogenides (TMD) are gaining increasing attention as new materials for future
Beyond-CMOS electronics. Recently, a great progress has been made in deposition of high quality layers of TMDs paving
the way towards wafer scale device manufacturing. However, many fundamental and technological challenges still have to
be addressed. Precise tuning of the number of layers, doping, surface functionalization and selective low damage etching of
TMDs are among the most critical technological steps. Plasma processing is an enabling technology used for doping,
etching and deposition of ultrathin layers in microelectronics industry. However, the application of plasmas for integration of
2D materials remains marginal and poorly controlled. The major challenge for plasma treatment of atomically thin materials
is the need for unprecedented control of fluxes and energies of plasma species at the substrate. Pulsed plasma technology
holds promise of reaching conditions required for low damage processing of 2D materials with a single atomic layer
precision. The ambition of PULSE2D is to develop highly controlled pulsed-plasma technology for integration of TMDs in
nano-electronic devices on a wafer-scale. A fundamental study of the mechanisms of interaction between pulsed plasmas
and atomically thin TMD materials will be performed. Defect production, adsorption and etching processes will be quantified
as a function of plasma parameters. This information will be used to perform atomic layer etching, functionalization and
defect healing of TMDs using pulsed plasmas. The research and training activities will enhance technical skills of the
candidate in the emerging area of plasma processing of 2D materials, industry-relevant nano-fabrication and measurement
of TMDs transport characteristics. High fundamental and technological interest and timeliness of this subject will provide a
powerful thrust for the future research career of the candidate.
Champ scientifique (EuroSciVoc)
CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.
CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.
- ingénierie et technologie nanotechnologie nanomatériaux nanostructures bidimensionnelles graphène
- sciences naturelles sciences physiques physique des plasmas
- sciences naturelles sciences chimiques science des polymères
- sciences naturelles sciences physiques électromagnétisme et électronique dispositif à semiconducteur
- sciences naturelles sciences chimiques chimie inorganique métalloïde
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Mots‑clés
Les mots-clés du projet tels qu’indiqués par le coordinateur du projet. À ne pas confondre avec la taxonomie EuroSciVoc (champ scientifique).
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Programme(s)
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
-
H2020-EU.1.3. - EXCELLENT SCIENCE - Marie Skłodowska-Curie Actions
PROGRAMME PRINCIPAL
Voir tous les projets financés dans le cadre de ce programme -
H2020-EU.1.3.2. - Nurturing excellence by means of cross-border and cross-sector mobility
Voir tous les projets financés dans le cadre de ce programme
Thème(s)
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Régime de financement
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
MSCA-IF - Marie Skłodowska-Curie Individual Fellowships (IF)
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Appel à propositions
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
(s’ouvre dans une nouvelle fenêtre) H2020-MSCA-IF-2016
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La contribution financière nette de l’UE est la somme d’argent que le participant reçoit, déduite de la contribution de l’UE versée à son tiers lié. Elle prend en compte la répartition de la contribution financière de l’UE entre les bénéficiaires directs du projet et d’autres types de participants, tels que les participants tiers.
3001 Leuven
Belgique
Les coûts totaux encourus par l’organisation concernée pour participer au projet, y compris les coûts directs et indirects. Ce montant est un sous-ensemble du budget global du projet.