Development of a photomask linewidth standard

Informations projet

N° de convention de subvention: MTR176

Date de début

Date de fin

Financé au titre de

• Research and development programme (EEC) in the field of applied metrology and chemical analysis (Community Bureau of Reference - BCR), 1988-1992

Coût total € 0,00

Contribution de l’UE € 1 241 873,00

Coordonné par

National Physical Laboratory (NPL)
United Kingdom

Publications

Other (1)

The BCR sub-micrometre photomask linewidth standard CRM 676

Auteurs: NUNN J (National Physics Laboratory, Teddington (GB)), MIRANDE W (Physicalisch-Technische Bundesanstalt, Braunchweig (DE)), TALENE N (Du Pont Photomasks, Rousset (FR)), SALIERI P (CEC Bruxelles (BE))
Publié dans: EUR 18201 EN (1998) 54pp., free of charge, 1998, Page(s) 54, ISBN 92-828-3078-0