Objectif
Future successful development of information technologies is strongly dependent on the continuation of Moore's law towards nano-electronics. According to the ITRS roadmap, the mainstream memory devices, e.g. DRAMs and Flash memories, will face a technological brick-wall around 2006. An ideal memory device for the coming nano-electronics era would be a silicon-technology compatible flash single-electron memory device. The aim of this project is to optimise and fabricate such nano-flash single-electron memory devices and the associated circuits using a fully MOS-compatible SOI technology. The key innovative aspects of this project rely on device design optimised for persistent operation and low voltage programming, and on a simple self-aligned SOI-MOS process. This project gathers together 3 university partners and an industrial partner interested in the high potential of this study. Future successful development of information technologies is strongly dependent on the continuation of Moore's law towards nano-electronics. According to the ITRS roadmap, the mainstream memory devices, e.g. DRAMs and Flash memories, will face a technological brick-wall around 2006. An ideal memory device for the coming nano-electronics era would be a silicon-technology compatible flash single-electron memory device. The aim of this project is to optimise and fabricate such nano-flash single-electron memory devices and the associated circuits using a fully MOS-compatible SOI technology. The key innovative aspects of this project rely on device design optimised for persistent operation and low voltage programming, and on a simple self-aligned SOI-MOS process. This project gathers together 3 university partners and an industrial partner interested in the high potential of this study.
OBJECTIVES
The critical points that currently limit performances are lithography resolution, process optimisation, and fine characterisation. The objectives of SASEM are to address these points and go from the existing laboratory single-electron-memory (SEM) device to memory circuit demonstration. In order to fully exploit the potential of our SEM device, all aspects from physics and technology to circuit architecture will be addressed. Detailed objectives: Process simulation using appropriate models for small devices and anisotropic oxidation. Device simulation and design, process optimisation for best reproducibility and robustness to process parameter fluctuations, and best device characteristics. Tests and optimisation of critical process steps. Memory device fabrication. Physical characterisation. Electrical characterisation (programming and readout, retention time). Design and fabrication of memory cells. Demonstration of a nano-flash SEM circuit.
DESCRIPTION OF WORK
The different components are grouped in the following workpackages (WP1 to WP3) and tasks. WP1: Design and simulation:
1.1 Development of specific process simulation tools that will allow device process optimisation. If necessary, 3D simulation will be considered on year 2;
1.2 Device process optimisation based on inputs from 1.1 as well as feedbacks from device characterization (3.1 and 3.3). Technological parameters will be optimised to produce the best device in terms of reproducibility and robustness to process parameter fluctuations, as well as device characteristics;
1.3 Design of a programming/readout circuit using the SOI analog circuit expertise of G1. Design improvement is based on memory cell characterization (3.4);
1.4 Design of memory circuit based on output from task 1.3. Feedback from memory circuit characterization (3.5) will drive design optimisation.
WP2: Fabrication: 2.1 Optimisation of the key process steps: lithography and oxidation. Shared by CO1 (oxidation) and CR3 (lithography). Physical characterization (3.1) will drive the present task through continuous feedbacks;
2.2 Based on inputs from tasks 1.2 and 2.1 task 2.2 is devoted to memory device fabrication. CO1 and CR3 will share process steps according to specific expertises and equipments;
2.3 Memory cell fabrication;
2.4 Memory circuit fabrication based on input from task 1.4.
WP3: Characterization;
3.1 Physical characterization using various investigation tools (SEM, AFM, FIB). Device process optimisation;
3.2 Development of specific device/circuit characterization tools to provide detailed investigation of memory device characteristics;
3.3 to 3.5: Devices, memory cells and memory circuits characterization, respectively. Provide continuous feedback to tasks 1.2 1.3 and 1.4.
Champ scientifique (EuroSciVoc)
CORDIS classe les projets avec EuroSciVoc, une taxonomie multilingue des domaines scientifiques, grâce à un processus semi-automatique basé sur des techniques TLN. Voir: Le vocabulaire scientifique européen.
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- ingénierie et technologie génie électrique, génie électronique, génie de l’information ingénierie électronique électronique analogique
- sciences naturelles sciences chimiques électrochimie électrolyse
- sciences naturelles informatique et science de l'information logiciel logiciel d’application logiciel de simulation
- ingénierie et technologie nanotechnologie nanoélectronique
- sciences sociales droit
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Mots‑clés
Les mots-clés du projet tels qu’indiqués par le coordinateur du projet. À ne pas confondre avec la taxonomie EuroSciVoc (champ scientifique).
Les mots-clés du projet tels qu’indiqués par le coordinateur du projet. À ne pas confondre avec la taxonomie EuroSciVoc (champ scientifique).
Programme(s)
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Programmes de financement pluriannuels qui définissent les priorités de l’UE en matière de recherche et d’innovation.
Thème(s)
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Les appels à propositions sont divisés en thèmes. Un thème définit un sujet ou un domaine spécifique dans le cadre duquel les candidats peuvent soumettre des propositions. La description d’un thème comprend sa portée spécifique et l’impact attendu du projet financé.
Appel à propositions
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Données non disponibles
Procédure par laquelle les candidats sont invités à soumettre des propositions de projet en vue de bénéficier d’un financement de l’UE.
Régime de financement
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Régime de financement (ou «type d’action») à l’intérieur d’un programme présentant des caractéristiques communes. Le régime de financement précise le champ d’application de ce qui est financé, le taux de remboursement, les critères d’évaluation spécifiques pour bénéficier du financement et les formes simplifiées de couverture des coûts, telles que les montants forfaitaires.
Coordinateur
1348 LOUVAIN-LA-NEUVE
Belgique
Les coûts totaux encourus par l’organisation concernée pour participer au projet, y compris les coûts directs et indirects. Ce montant est un sous-ensemble du budget global du projet.