2D-Pilot Line

Informacje na temat projektu

2D-PL

Identyfikator umowy o grant: 101189797

DOI

10.3030/101189797

Data podpisania przez KE 8 Listopada 2024

Data rozpoczęcia 1 Października 2024

Data zakończenia 30 Września 2028

Finansowanie w ramach

• Digital, Industry and Space

Koszt całkowity

€ 32 997 565,75

Wkład UE

€ 32 997 565,75

Koordynowany przez

INTERUNIVERSITAIR MICRO-ELECTRONICA CENTRUM
Belgium

CORDIS oferuje możliwość skorzystania z odnośników do publicznie dostępnych publikacji i rezultatów projektów realizowanych w ramach programów ramowych HORYZONT.

Odnośniki do rezultatów i publikacji związanych z poszczególnymi projektami 7PR, a także odnośniki do niektórych konkretnych kategorii wyników, takich jak zbiory danych i oprogramowanie, są dynamicznie pobierane z systemu OpenAIRE .

Publikacje

Peer reviewed articles (8)

Contact Resistance Optimization in MoS₂ Field-Effect Transistors through Reverse Sputtering-Induced Structural Modifications

Autorzy: Yuan Fa; Agata Piacentini; Bart Macco; Holger Kalisch; Michael Heuken; Andrei Vescan; Zhenxing Wang; Max C. Lemme
Opublikowane w: ACS Applied Materials & Interfaces, 2025, ISSN 1944-8252
Wydawca: American Chemical Society
DOI: 10.48550/ARXIV.2412.08663

Nanoscale spectroscopic investigation of impact of strain on field-effect mobility of WS₂

Autorzy: Fateme Yekefalah, Thomas Nuytten, Kaustuv Banerjee, Pawan Kumar, Benjamin Groven, Claudia Fleischmann, Ingrid De Wolf
Opublikowane w: Nanotechnology, Numer 36, 2025, ISSN 0957-4484
Wydawca: IOP Publishing
DOI: 10.1088/1361-6528/ADDACC

Optimizing Graphene Ring Modulators: A Comparative Study of Straight, Bent, and Racetrack Geometries

Autorzy: Pawan Kumar Dubey; Ashraful Islam Raju; Rasuole Lukose; Christian Wenger; Mindaugas Lukosius
Opublikowane w: Nanomaterials, 2025, ISSN 2079-4991
Wydawca: MDPI
DOI: 10.3390/NANO15151158

Plasma-enhanced atomic layer deposition of Al2O3 on graphene via an in situ-deposited interlayer

Autorzy: Riazimehr, Sarah; Esteki, Ardeshir; Otto, Martin; Powell, Michael; Rinke, Gordon; Robertz, Bianca; Wang, Zhenxing; Lemme, Max C.; Hore, Katie; Knoops, Harm
Opublikowane w: Materials Science in Semiconductor Processing, 2025, ISSN 1873-4081
Wydawca: ELSEVIER SCI LTD
DOI: 10.2139/SSRN.5236560

Optimized silicon nitride-spaced graphene electro-optic modulator with high efficiency and bandwidth

Autorzy: Ashraful Islam Raju; Pawan Kumar Dubey; Rasuole Lukose; Christian Wenger; Andreas Mai; Mindaugas Lukosius
Opublikowane w: Optical and Quantum Electronics, 2025, ISSN 1572-817X
Wydawca: SPRINGER NATURE
DOI: 10.1007/S11082-025-08310-0

Toward characterization and assessment of MoS2 fundamental device properties by photoluminescence

Autorzy: Thomas Nuytten, Albert Minj, Stefanie Sergeant, Quentin Smets, Steven Brems, Pawan Kumar, Souvik Ghosh, Tom Schram, Sreetama Banerjee, Anastasiia Kruv, Dennis van Dorp, Benjamin Groven, Pierre Morin
Opublikowane w: Materials Science in Semiconductor Processing, Numer 193, 2025, ISSN 1369-8001
Wydawca: Elsevier BV
DOI: 10.1016/J.MSSP.2025.109489

Graphene-PbS quantum dot hybrid photodetectors from 200 mm wafer scale processing

Autorzy: Sha Li, Zhenxing Wang, Bianca Robertz, Daniel Neumaier, Oihana Txoperena, Aranzazu Maestre, Amaia Zurutuza, Chris Bower, Ashley Rushton, Yinglin Liu, Chris Harris, Alexander Bessonov, Surama Malik, Mark Allen, Ivonne Medina-Salazar, Tapani Ryhänen, Max C. Lemme
Opublikowane w: Scientific Reports, Numer 15, 2025, ISSN 2045-2322
Wydawca: Springer Science and Business Media LLC
DOI: 10.1038/S41598-025-96207-Z

Nature Communications

Autorzy: Bárbara Canto; Martin Otto; Arantxa Maestre; Alba Centeno; Amaia Zurutuza; Bianca Robertz; Eros Reato; Bartos Chmielak; Stefanie L. Stoll; Andreas Hemmetter; Florian Schlachter; Lisa Ehlert; Sha Li; Daniel Neumaier; Gordon Rinke; Zhenxing Wang; Max C. Lemme
Opublikowane w: Nature Communications, 2025, ISSN 2041-1723
Wydawca: NATURE PORTFOLIO
DOI: 10.18154/RWTH-2025-01703

Conference proceedings (1)

Addressing Key Process Roadblocks to Enable Epitaxial MX2 and Layer Transfer in a 300mm Fab

Autorzy: Addressing Key Process Roadblocks to Enable Epitaxial MX2 and Layer Transfer in a 300mm Fab
Opublikowane w: VLSI TSA, 2025, ISSN 2473-2001
Wydawca: IEEE
DOI: 10.1109/VLSITSA64674.2025.11046891